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二氧化硅（SiO2）
规格：透明颗粒（1-5mm; 白色压片）; 用途：防反膜产，冷光膜，滤光片，绝缘膜，眼镜膜，紫外膜。¥ 0.00立即购买
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一氧化硅（SiO)
折射率：1.8；透过率：0.6 -8u; 蒸发温度：1700℃; 蒸发源：E,W,Mo,Ta; 用途：装饰膜、保护膜。¥ 0.00立即购买
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Cr 颗粒
密度（g/cm3) : 7.19; 熔点：1890；蒸发温度：1000-1205℃; 蒸发源：W、Mo、Ta、 E。¥ 0.00立即购买
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二氧化锆（ZrO2)
折射率：2.05；透过率：0.25 -7u; 蒸发温度：2700℃; 蒸发源：E; 用途：增透膜多层膜。¥ 0.00立即购买
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YS04膜料
折射率：1.48；熔点：1720℃; 蒸发温度：1900-2000℃;规格：1-3mm; 用途：增透膜（胶片、塑胶镜片等）。¥ 0.00立即购买
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