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光学镀膜膜料
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一氧化硅(SiO)
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一氧化硅(SiO)
折射率:1.8;透过率:0.6 -8u; 蒸发温度:1700℃; 蒸发源:E,W,Mo,Ta; 用途:装饰膜、保护膜。
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前一个:
二氧化硅(SiO2)
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后一个:
YS04膜料
【这是一个产品详情】产品详情已自动绑定后台每篇产品的数据。拖动控件时请不要让任何控件重叠。请在后台产品管理直接设置好产品详情的内容样式,前台设计器不提供设置。
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